氣相沉積爐簡(jiǎn)介

   熱誘導化學(xué)氣相沉積 (英語(yǔ):chemical vapor deposition ,CVD)是用于各種電介質(zhì),半導體和金屬材料的保護涂層的沉積的有力方式，無(wú)論是單晶，多晶，無(wú)定形或外延狀態(tài)上或大或小的形態(tài)。典型的涂層材料包括熱解碳，碳化硅，氮化硼。通過(guò)使用合成前體，涂層非常純凈并目滿(mǎn)足半導體工業(yè)的典型要求，根據工藝參數，可以有多種層厚度，從單個(gè)或幾個(gè)原子層到厚度從10納米到數百微米的固體保護層或功能層，以及厚度達100微米的單片部件，甚至高達數毫米。

熱誘導的化學(xué)氣相滲透(英語(yǔ):chemical vaporinfiltration ,CVI)是一個(gè)與CVD有關(guān)的技術(shù)，以在基體材料滲入多孔或纖維預成型件以制備由復合材料制成的部件具有改善的機械性能，耐腐蝕性，耐熱沖擊性和低殘余應力。
技術(shù)特點(diǎn)：

1. 采用立式、底/頂開(kāi)門(mén)結構：裝、卸料精度高，操作方便；

2. 采用先進(jìn)的控制技術(shù)，能精密控制MTS的流量和壓力，爐膛內沉積氣流穩定，壓力波動(dòng)范圍小；

3. 溫度均勻性好：平均溫度均勻性為±5℃；

4. 采用多通道沉積氣路，流場(chǎng)均勻，無(wú)沉積死角，沉積效果好；

5. 全封閉沉積室，密封效果好，抗污染能力強；

6. 安全性能好：采用HMI+PLC+PID壓力傳感控制，安全可靠；

7. 對沉積產(chǎn)生的高腐蝕性尾氣、易燃易爆氣體、固體粉塵及低熔點(diǎn)粘性產(chǎn)物能進(jìn)行有效處理；

8. 多級高效尾氣處理系統，環(huán)境友好，能高效收集焦油及副產(chǎn)物，易清理；

9. 采用設計防腐蝕真空機組，持續工作時(shí)間長(cháng)，維修率極低。

設備規格：